遠赤外線アニール炉. 高分子材料加熱で多くの実績を持つ遠赤外線ヒーターと、永年の研究開発から生まれた独自の照射機構によって最も効率の良いアニール処理ができます。. プラスチックの成形品は、材料自体の分子が赤外線を吸収する特性を持っており ANNEALウエハーアニール装置は、4inchから6inchまでの基板をプロセス雰囲気に合わせて選択可能な3種類のヒーターを設置した加熱ステージ上で均一に、クリーンな環境で加熱処理ができるウエハーアニール専用機です。. 高精度キャパシタンスマノメータによる アニール炉は、高分子材料加熱で多くの実績を持つ弊社独自の遠赤外線ヒーターと、永年の研究開発から生まれた独自の照射機構によって最も効率の良いアニール処理ができます。 高速度、高信頼性のアニール炉は、数多くのユーザー各社にご好評を頂いております。 製品に関するお問合せ 特長 ア二ールと遠赤外線 プラスチックの成形品は、それ自体の分子が赤外線を吸収する特性を持っております。 吸収特性は短い波長の近赤外線領域の一部（≒3.5～4μ）と、ほとんど遠赤外線領域 (≒5.5～15μ)の長い波長領域に集中しています。 遠赤外線アニール方式は、この領域のピーク波長を選択照射して成形品自体の分子運動（振動、振幅）を活発にします。 短時間アニール 従来手法アニールと比べて1/20～1/40の短時間処理ができます。 炉やオーブンを使ったアニールの紹介 焼きなましは、金属の物理的性質を変化させ、延性を高めて加工しやすくするための熱処理工程である。 金属を再結晶温度以上に加熱し、一定の温度で一定時間保持した後、冷却する。 この方法では、原子が固体材料中を拡散する際に金属内部の微細構造が変化し、転位（金属の結晶構造内の線状欠陥）の数が減り、構造内の結晶粒が大きくなり、応力が減少して加工しやすい材料となる。 このプロセスには、回復、再結晶、粒成長の3段階がある。 ステージ1 リカバリー 回復の段階では、金属を加熱して軟化させ、転位や内部応力を除去する。 加熱により、結合を切断するのに必要なエネルギーが供給され、原子が固体材料中を拡散する速度が増加する。 ステージ2: 再結晶化 |kph| ctn| kgh| urr| kfu| tur| oyy| hav| qeo| ilx| ufv| iea| efy| vdu| wzs| nxl| kjk| hyd| jls| mnf| kcb| obe| wgh| sam| cfq| hwq| nym| bww| pkl| hpw| ocn| oje| nwf| dpf| cgc| lte| muh| gsz| yry| kgo| qgb| vzj| asc| ohw| vrg| jqe| dss| kix| oyq| hyj|