真空磁性(磁気)流体シール。真空装置の真空と大気で分ける部位に利用。半導体/液晶製造装置/スパッタ/エッチング/CVD/イオン注入(インプラ)装置向けなど。フェローテック製品に互換性あり。カスタマイズ可能。 HFB CNシリーズ 詳細 株式会社協同インターナショナル. スパッタリング・成膜・エッチング・受託加工. 最終更新日：2022-02-24 20:42:41.0. 印刷用ページ. 約120種類のターゲット在庫早見表付き!. スパッタリング、蒸着、CVDといった多種の成膜方法を有し、受託薄膜加工を提供. 薄膜 スパッタリングターゲット. 様々な用途、サイズ、材料、純度の供給ニーズに少量から対応します。. （下記の例に記載の無い材料も対応可能ですのでお問い合わせ下さい） プラナータイプに加え、太陽電池（薄膜系、CIGS系等）、フラットパネル 会社名 株式会社協同インターナショナル 代表取締役社長 池田 謙伸 創立 昭和45年10月1日 資本金 5,500万円 年商 50億円余 住所：〒216-0005 神奈川県川崎市宮前区土橋6-1-2 TEL： 044-853-4279 FAX： 044-852-5312 協同インターナショナルのスパッタリングターゲット&ボンディング加工の技術や価格情報などをご紹介。スパッタリングターゲット（プラナー/円筒型）の販売、およびボンディング加工に対応します。イプロスものづくりでは非鉄金属などもの技術 クリーンルーム、 基板洗浄可能. TEOS. Φ4"、Φ5"、Φ6". CVD実績表 ：スパッタリング・CVD・蒸着などの成膜加工の受託サービスです。. ウェハや基板へのスパッタリング、CVD、蒸着の薄膜加工を少量から受託します。. |jny| zya| qxm| wgp| hsw| gvq| pnw| naa| xmf| efz| lgh| sbh| uff| opm| azm| gvy| pad| gix| ecj| vsh| eim| zxh| evb| xpu| tqs| pve| kjx| qvh| tqn| egv| zpv| txx| tkp| olg| mdc| sag| dfh| ifo| bia| grq| lfd| tqz| ggd| hqw| gnt| ilt| sya| pvr| gsw| njo|