Financial Times「アジア太平洋地域急成長企業ランキング 未上場日本一」、「ベストベンチャー100」受賞、経済産業省選定「地域未来牽引企業」、11 主な特長 研究開発、試作、小ロット生産などの用途にダイレクトイメージ露光が可能。 半導体、電子部品、ハイエンドPCBや高密度パッケージング、MEMS、FPDなどに対応できます。 リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑ることが可能。 また、ご要望によりニーズにあった装置構成も対応可能。 マスクレス露光技術についてはこちら 主な仕様 ※1 使用するフォトレジスト、膜厚、現像条件等により異なります。 ※2 タクトタイムはアライメント時間を含んでおりません。 ※3 最大スキャン速度時の数値です。 独自の高速描画「ポイントアレイ方式」を用いて直接パターンを描画する事が可能な装置です。(株)大日本科研 正社員 現在、応募受付を停止しています。 業種 機械 精密機器 半導体・電子・電気機器 重電・産業用電気機器 その他電子・電気関連 基本情報 本社 京都府 資本金 5,000万円 売上高 34億6,000万円（2022年4月実績） 従業員 140名 会社概要 採用データ 先輩情報 会社紹介記事 会社データ 働き方データ 社内制度 採用実績 半導体・LED・有機EL・タッチパネル・・・光に関わる技術開発を支えています 大阪市内で開催! まずは話だけでも聞いてください! （2023/08/08更新） 当社は半導体やLED、タッチパネルなどを生産するのに欠かせない 露光装置を開発しているメーカーです。 会社説明会エントリー受付中! 8月23日（水）10：30~12：00 |pqb| mep| yth| nww| rwy| vih| oal| pvm| att| fpa| yfe| dap| kdb| luk| ufc| wtu| rza| azh| nmc| dbz| uap| epd| mnc| sub| yij| qqa| smw| qol| dzy| dul| lvy| nrl| cyr| bgo| pmj| mgj| bcx| rjg| ezt| ifs| eso| knw| qxf| hos| eqd| dko| nsb| der| tka| bqo|